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《中国工程科学》 >> 2009年 第11卷 第11期

新型PB-PSOI器件表面电场和温度分布模型研究

1. 东南大学国家ASIC系统工程技术研究中心,南京210096;

2. 安徽大学电子科学与技术学院,合肥230039

资助项目 :江苏省自然基金资助项目(BK2008287);东南大学国家自然基金预言项目(XJ2008312) 收稿日期: 2008-04-11 发布日期: 2009-11-12 13:08:03.000

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摘要

根据泊松方程和热扩散方程提出了新型PB-PSOI 器件漂移区的二维表面电场分布模型和温度分布模型,模型计算结果与Medici模拟结果相一致。根据所提出的模型,重点研究了埋氧化层厚度及长度对漂移区表面电场分布和温度分布的影响,最后给出了PB-PSOI 器件的埋氧化层厚度和长度的优化设计方法。

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参考文献

[ 1 ] Duan Baoxing, Zhang Bo, Li Zhaoji.New concept for improving characteristics of high -voltage power devices by buried layers modulation effect[ A] .ICSICT '06 [ C] ,2006 :239 -241

[ 2 ] Porter D, Stirling DsG.Integration Equations[ M] .Cambridge U- niversity Press,1990

[ 3 ] S.-Y.Han, H.-W.Kim, S.-K.Chung.Surface field distri- bution and breakdown voltage of RESURF LDMOSFETS [ J] .Mi- croelectronics Journal, 2000 , 31 ( 8 ) :685 -688 链接1

[ 4 ] S.-K.Chung, S.-Y.Han.Analytical model for the surface field distribution of SOI RESURF Devices[ J] .IEEE Transactions on Electron Devices, 1988 ,45 ( 6 ) :1374 -1376 链接1

[ 5 ] He Jin, Zhang Xing.Quasi -2 -D analytical model for surface field distribution and opitimization of RESURF LDMOS transistor [ J] .Microelectron Journal, 2001 ,32 ( 8 ) :655 -663

[ 6 ] Sun Weifeng, Shi Longxing.Analytical models for surface poten- tial and electrical field distribution of bulk -silicon RESURF de- vices[ J] .Solid -Sate Electronics, 2004 , 48 ( 5 ) :799 -805 链接1

[ 7 ] Lim H T, Udrea F,Garner D M ,et al.Modelling of self -heating effect in thin SOI and Partial SOI LDMOS power devices[ J] .Solid -State Electronics, 1999 , 43 ( 7 ) :1267 -1280 链接1

[ 8 ] Zhu Ming,Chen Peng,Fu R K.-Y,et al.Numerical study of self -heating effects of MOSFETs fabricated on SOAN substrate [ J] . IEEE Transactions on Electron Devices, 2004 , 51 ( 6 ) :901 -906 链接1

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