正文
《化学科学与工程前沿(英文)》 >> 2019年 第13卷 第3期 doi: 10.1007/s11705-019-1820-5
Low-k integration: Gas screening for cryogenic etching and plasma damage mitigation
. IMEC v.z.w., 3001 Leuven, Belgium.. GREMI/University of Orleans, Orleans, France.. Air Liquide Laboratories, Tsukuba, Japan
摘要
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