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《中国工程科学》 >> 2000年 第2卷 第5期

我国MBE GaAs基材料如何从实验室走向产业化

中国科学院半导体所,北京 100083

收稿日期: 1999-10-19 修回日期: 2000-02-16 发布日期: 2000-05-20

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摘要

以分子束外延(MBE)GaAs基微结构材料为基础制作的HEMT,PHEMT等器件在信息产业中已广泛应用,在国外并已进入产业化。20世纪80年代中期以来,中科院半体所研制的MBE GaAs基材料,已被成功地用于制备出一系列新型半导体器件;其HEMT,PHEMT微结构材料的实用化性能指标已经基本达到国际一流产品的水平;并对MBE GaAs材料如何走向产业化进行了探讨。

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