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采用硅光电倍增管阵列扩展探测实现非线性荧光显微技术中散射光子探测信号的增强 Research Articles
施汝恒1,靳程1,刘驰1,孔令杰1,2
《信息与电子工程前沿(英文)》 2021年 第22卷 第10期 页码 1289-1298 doi: 10.1631/FITEE.2000410
硅基石墨烯调制器 Special Feature on Optoelectronic Devices and Inte
Hao-wen SHU, Ming JIN, Yuan-sheng TAO, Xing-jun WANG
《信息与电子工程前沿(英文)》 2019年 第20卷 第4期 页码 458-471 doi: 10.1631/FITEE.1800407
关键词: 硅基光电子学;石墨烯;光调制器
一类新的光电神经元模型及其动力学 Research Articles
刘勇1,徐万江1,马军2,3,Faris ALZAHRANI4,Aatef HOBINY4
《信息与电子工程前沿(英文)》 2020年 第21卷 第9期 页码 1387-1396 doi: 10.1631/FITEE.1900606
在现场可编程门阵列中用于降低泄漏功率的动态电源门控 Research Article
Hadi JAHANIRAD
《信息与电子工程前沿(英文)》 2023年 第24卷 第4期 页码 582-598 doi: 10.1631/FITEE.2200084
利用三元合金保护和催化的硅光阳极与廉价硅太阳能电池相结合实现12.0%的太阳能制氢效率 Article
何凌云, 洪欣, 王亦清, 邢众航, 耿嘉峰, 郭鹏慧, 苏进展, 沈少华
《工程(英文)》 2023年 第25卷 第6期 页码 128-137 doi: 10.1016/j.eng.2022.03.023
n型硅(n-Si)表面在水溶液中容易被氧化和钝化,导致其在光电化学(PEC)分解水的析氧反应(OER)动力学缓慢。RHE电位时具有较高的光电流密度(33.1 mA∙cm-2),显著优于Ni/p+n-Si光阳极。令人鼓舞的是,通过将Ni0.9Fe0.05Co0.05/p+n-Si光阳极连接到廉价的硅太阳能电池上,所制备的集成光伏/PEC(PV/PEC)器件实现了无偏压下高达12.0%的太阳制氢能量转换效率。
杨凌升,王斌,李雅洁
《信息与电子工程前沿(英文)》 2023年 第24卷 第9期 页码 1357-1365 doi: 10.1631/FITEE.2200542
屠海令
《中国工程科学》 2000年 第2卷 第1期 页码 7-17
随着超大规模集成电路设计线宽向深亚微米级(<0.5μm)和亚四分之一微米级(<0.25μm)发展,对半导体硅片及其它硅基材料的质量要求越来越高,研究上述材料中各种杂质的行为,控制缺陷类型及数量文章阐述了深亚微米级和亚四分之一微米级集成电路用大直径硅材料中铁、铜金属和氧、氢、氮非金属杂质元素的行为,点缺陷及其衍生缺陷的本质与控制方法,硅片表面形貌、表面污染与检测方法的研究热点。同时还介绍了外延硅、锗硅及绝缘体上硅(SOI)等硅基材料的特性、制备及工艺技术发展趋势,展望了跨世纪期间硅及硅基材料产业发展的技术经济前景。
Wen-hua SHI, Wei-ming LV, Tian-yu SUN, Bao-shun ZHANG
《信息与电子工程前沿(英文)》 2019年 第20卷 第4期 页码 439-457 doi: 10.1631/FITEE.1800451
光电技术是一种由光子技术和电子技术相结合形成的新技术。光子技术会引起一场取代电子技术的工业革命,因为它将对工业和社会产生更深远的影响。我们回顾了光电器件和集成技术的发展。我们比较和分析了光电技术平台的发展和特点,总结了关键的制造技术,介绍了几种具有代表性的光电设备,包括柔性设备,并重点介绍了需要实现的关键突破技术。通过对光电子技术发展的全面回顾,中国应该抓住机遇,转变光电子技术产业。借鉴国外先进光电平台和技术的经验,加快中国工业人才的积累和储备,重视基础技术的积累,建立国家光电技术平台,大大提高国内水平。
利用对称结构和结合差分进化的文化算法检测阵列中的故障传感器 Article
Shafqat Ullah KHAN,Ijaz Mansoor QURESHI,Fawad ZAMAN,Wasim KHAN
《信息与电子工程前沿(英文)》 2017年 第18卷 第2期 页码 235-245 doi: 10.1631/FITEE.1500315
关键词: 文化算法;差分进化;线性对称传感器阵列
梁骏吾
《中国工程科学》 2000年 第2卷 第6期 页码 33-35
文章简要评述了世界以及中国的电子级多晶硅的生产能力和市场需求。在2000年和2010年中国对多晶硅的需求分别是736 t/a和1304 t/a。但近几年中国的多晶硅生产仅达到80 t/a,所以在中国建设一座年产1000 t电子级多晶硅的工厂是很合理的。然而由最新统计数据可知,自1997年以来,世界多晶硅生产能力连年均超过市场需求,而且在最近的将来,这一趋势将会继续。为了占领国内多晶硅市场,未来的多晶硅工厂将面临挑战,产品质量和生产成本是应当考虑的最重要指标。为了占领国内市场,在保证多晶硅产品纯度的前提下,生产成本只能略微超过20美元/kg。
张福学,毛旭,张伟
《中国工程科学》 2006年 第8卷 第8期 页码 23-27
报道了一种利用旋转体自身角速度作为驱动力,通过各向异性刻蚀硅片制作的硅微机械陀螺。介绍了该陀螺敏感结构(硅摆)的设计、制作与封装工艺,用仿真器测试了旋转体的角速率。
基于碳纳米管场效应管的新型三元半加器及乘法器 Article
Sepehr TABRIZCHI,Nooshin AZIMI,Keivan NAVI
《信息与电子工程前沿(英文)》 2017年 第18卷 第3期 页码 423-433 doi: 10.1631/FITEE.1500366
标题 作者 时间 类型 操作