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期刊论文 1

年份

2008 1

关键词

原子力显微镜 1

纳米刻蚀 1

纳米加工 1

蘸水笔 1

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蘸水刻蚀技术(DPN) 的机理与进展

蒋洪奎,姚汤伟,胡礼广,沈亚强,虞献文

《中国工程科学》 2008年 第10卷 第7期   页码 173-179

摘要:

蘸水刻蚀(dip-pen nanolithography ,DPN)技术是近年来发展起来的基于原子力显微镜(AFM)的一种 扫描探针加工技术蘸水技术的刻蚀过程包括AFM 针尖对墨水分子的吸附、针尖与 基底间弯月液桥的形成、墨水分子在液桥中的传输、墨水分子在基底的扩散等四个阶段,并受温度、湿度、针 尖、扫描速度等多种因素的影响。文章具体分析了蘸水技术在不同阶段的作用机理,综合介绍了蘸水刻 蚀技术在近年来的进展,包括电化学DPN 技术、DPN 的多种加工模式、DPN 的复合加工及多探针的DPN 加工 等;分析了DPN的加工特点及其应用

关键词: 蘸水     纳米刻蚀     原子力显微镜     纳米加工    

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蘸水刻蚀技术(DPN) 的机理与进展

蒋洪奎,姚汤伟,胡礼广,沈亚强,虞献文

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